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据韩媒businesskorea报道，三星电子副会长李在镕在6月中旬访问ASML荷兰总部时会见ASML首席执行官（ CEO ）Peter Wennink和首席技术官(CTO) Martin van den Brink，并就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出的High-NA EUV光刻机达成协议。

据推测，High-NA EUV光刻机的单价为5000亿韩元，是现有EUV光刻机的2倍。业内人士指出，如果三星电子购买10台High-NA EUV光刻机，将需要5万亿韩元以上的费用。为了提高韩国的国家产业竞争力，有必要扩大政府的支援。

该报道称，三星电子将High-NA EUV光刻机实际应用于半导体工艺的具体时间还没有确定，但考虑到交货时间，预计三星电子将从2024年开始使用该设备。

关键词： 三星电子 首席执行官 具体时间